當(dāng)前金屬原料板材經(jīng)裁剪（或打磨）、化學(xué)清洗及干燥處理后，存放于真空度較低（約100Pa）的真空儲(chǔ)存柜，仍不可避免地帶來(lái)碳、氧、氮等雜質(zhì)元素的吸附污染。金屬材料全自動(dòng)高真空貯存柜主要用于合金原材料的高真空貯存。

高真空儲(chǔ)存柜為非標(biāo)工藝設(shè)備，主要原理為真空干燥箱類似抽真空，主要由進(jìn)樣室、儲(chǔ)樣室、傳送裝置、計(jì)算機(jī)自動(dòng)識(shí)別與控制等部分組成。

   高真空儲(chǔ)存柜技術(shù)要求與指標(biāo)

   1、進(jìn)樣室

進(jìn)樣室為單腔室，主要材質(zhì)為不銹鋼（304或同等以上不銹鋼），腔室內(nèi)表面光潔度要求小于等于Ra0.8，零件加工工藝、部件裝配工藝嚴(yán)格按照真空規(guī)范執(zhí)行，保證進(jìn)樣室具有高真空度、高清潔度。具有自動(dòng)放氣功能，并帶有正壓保護(hù)閥。

進(jìn)樣室包括：快速進(jìn)樣法蘭，視窗，傳送裝置，樣品托盤(pán)，分子泵，干泵，真空規(guī)，放氣裝置，照明裝置。極限真空度：空載、干燥、室溫下30分鐘內(nèi)達(dá)到10^-4 Pa，漏率小于1×10^-11 Pa·m³/s。

閥門(mén)至少包括4個(gè)，包括分子泵連接進(jìn)樣室、進(jìn)樣室連接儲(chǔ)樣室（為氣動(dòng)插板閥）、放氣閥、漏閥。泵包括1個(gè)分子泵和1個(gè)干泵，泵組的抽速需要滿足同時(shí)給進(jìn)樣室和儲(chǔ)樣室抽真空的要求。

    2、儲(chǔ)樣室

儲(chǔ)樣室為單腔室，主要材質(zhì)為不銹鋼（304或同等以上不銹鋼），腔室內(nèi)表面光潔度要求小于等于Ra0.8，零件加工工藝、部件裝配工藝嚴(yán)格按照真空規(guī)范執(zhí)行，保證儲(chǔ)樣室具有高真空度、高清潔度。

儲(chǔ)樣室包括：連接進(jìn)樣室法蘭，快開(kāi)門(mén)法蘭和視窗，存樣裝置，離子泵，真空規(guī)，照明裝置。極限真空度：空載、干燥、室溫下≤5′10^-6 Pa；漏率：<1′10^-11 Pa.m³/s；空載靜態(tài)保壓：關(guān)閉抽氣設(shè)備12小時(shí)后靜態(tài)真空≤5×10^-2 Pa；存、取放樣品時(shí)，儲(chǔ)樣室不暴露大氣；保留快開(kāi)門(mén)方便儲(chǔ)樣室內(nèi)部維護(hù)和清理；儲(chǔ)樣室可存放金屬原材料總重量不低于6 kg。

閥門(mén)至少包括1個(gè)，包括離子泵連接儲(chǔ)樣室。泵包括1個(gè)離子泵，離子泵的規(guī)格需要滿足儲(chǔ)樣室抽真空的要求，離子泵帶鈦升華泵，自帶加熱功能及配套電源。

    3、 傳送裝置及計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)

單個(gè)樣品托盤(pán)可裝載金屬原材料重量約為300g；

控制系統(tǒng)模塊化設(shè)計(jì)，可實(shí)現(xiàn)PLC自動(dòng)控制真空泵機(jī)組抽真空、機(jī)械傳送裝置在進(jìn)樣室與儲(chǔ)樣室間進(jìn)樣與取樣、儲(chǔ)樣室樣品架升降旋轉(zhuǎn)、進(jìn)樣室放氣等全自動(dòng)過(guò)程，采用真空、位置等參數(shù)反饋控制上述動(dòng)作，無(wú)需人為干涉；

可任意查詢某批樣品的位置和數(shù)量；

可視化仿真軟件顯示與控制，實(shí)時(shí)顯示進(jìn)樣室和儲(chǔ)樣室真空度、溫度等信息；

系統(tǒng)應(yīng)與甲方的上位控制系統(tǒng)進(jìn)行通訊，數(shù)據(jù)應(yīng)采集至上位控制系統(tǒng)中，通訊接口及協(xié)議應(yīng)滿足甲方的接口規(guī)范。

金屬材料全自動(dòng)高真空貯存柜的技術(shù)要求列于表1中。

表1 詳細(xì)技術(shù)指標(biāo)